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iPhone二十周年纪念版曝光:四微曲屏+屏下FaceID,中框回归大弧度

来源:三言科技 | 作者:shellbox | 发布时间 :2026-05-25 | 6 次浏览: | 🔊 点击朗读正文 ❚❚ | 分享到:
据锋潮评测,近日有媒体基于现有爆料制作了iPhone二十周年纪念版的渲染视频,展示了该机在外观上的两大核心变化。

据锋潮评测,近日有媒体基于现有爆料制作了iPhone二十周年纪念版的渲染视频,展示了该机在外观上的两大核心变化。

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正面方面,该机将采用四微曲屏幕,边框进一步缩窄,灵动岛彻底改为屏下方案。此前传闻iPhone18系列将换用屏下FaceID以实现单挖孔设计,但该方案并未完全实装,iPhone18Pro仅缩小了灵动岛面积。若二十周年纪念版真能量产屏下方案,安卓阵营或将面临新的跟进压力,中兴等坚持屏下摄像头的厂商则有望迎来转机。

背面方面,渲染图显示其后置摄像头可能采用横向排列布局,但分析认为旗舰机型砍掉三摄的可能性较低,超广角、主摄、长焦预计仍将保留。该设计或与即将推出的iPhoneFold保持家族式设计风格有关,也可能是受到iPhoneFold外观爆料的影响。

此外,由于采用四曲面显示屏,该机中框将从直角设计回归早期的大弧度中框,手感有望显著改善。


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